
以雷射盲孔、機械埋孔與盤中孔實現高密度互連,為算力加速卡、光模組與小型化終端釋放佈線空間。支援 1+N+1 / 2+N+2 / 3+N+3 疊構與錯孔、疊孔組合,1–3 階結構穩定量產;任意層互聯(ELIC)與更高階結構按專案工程評審,滿足高 IO 密度與短互連路徑的設計需求。
雷射盲孔最小 0.10 mm、厚徑比 ≤1:1,疊孔對位 ±0.05 mm,HDI 線寬線距 2/2 mil(LDI 直接成像)。1+N+1 至 3+N+3 疊構穩定量產;任意層互聯與跨階互連按專案工程評審。
| 能力項目 | 規格範圍 |
|---|---|
| HDI 階數 | 1 – 3 階 |
| 雷射盲孔最小孔徑 | 0.10 mm |
| 機械鑽孔最小孔徑 | 0.15 mm |
| 最小線寬 / 間距 | 2 / 2 mil |
| 板厚範圍 | 0.4 – 3.0 mm |
| 孔類型 | 通孔 / 盲孔 / 埋孔 / 盤中孔 / 疊孔 |
| 填孔方式 | 樹脂塞孔 / 電鍍填孔(POFV) |
| 層間對位精度 | ±0.05 mm |
| 雷射鑽孔類型 | CO2 雷射(盲孔縱橫比 ≤ 1:1) |
| 盲孔焊環(單邊) | 常規 4 mil(極限 2 mil) |
| 孔銅厚度 | 25 – 50 μm(可按要求加厚) |
| 表面處理支援 | ENIG / ENEPIG / 沉銀 / 沉錫 / OSP |
1+N+1、2+N+2、3+N+3,支援錯孔與疊孔組合;任意層互聯(ELIC)與跨階互連按專案評審。
CO2 雷射盲孔最小 0.10 mm,厚徑比 ≤1:1;機械鑽最小 0.15 mm。
支援。盤中孔(POFV)採填銅並整平,逐批以 X-ray 與切片驗證。